Kamuflaż idealny w US Army

Choć na współczesne pole walki pełne jest urządzeń wykrywających obecność żołnierzy to wciąż siły zbrojne wszystkich państw inwestują w rozwój ubrań maskujących. Nowego, niemal idealnego wzoru kamuflażu szukają obecnie siły zbrojne Stanów Zjednoczonych. Rezultaty są bardzo obiecujące.

Choć na współczesne pole walki pełne jest urządzeń wykrywających obecność żołnierzy to wciąż siły zbrojne wszystkich państw inwestują w rozwój ubrań maskujących. Nowego, niemal idealnego wzoru kamuflażu szukają obecnie siły zbrojne Stanów Zjednoczonych. Rezultaty są bardzo obiecujące.

Choć na współczesne pole walki pełne jest urządzeń wykrywających obecność żołnierzy to wciąż siły zbrojne wszystkich państw inwestują w rozwój ubrań maskujących. Nowego, niemal idealnego wzoru kamuflażu szukają obecnie siły zbrojne Stanów Zjednoczonych. Rezultaty są bardzo obiecujące.

Obecnie większość jednostek amerykańskich działających na pierwszej linii używa wzoru stworzonego przez firmę ADS. Składa się on z szeregu pikseli, które z pewnej odległości zapewniają bardzo maskowanie żołnierza. Jednak jeszcze ciekawszą propozycję złożyła firma Kryptek, założona przez dwóch amerykańskich weteranów wojny w Iraku.

Reklama

Na pierwszy rzut oka wydaje, że w projekcie tym postawiono na efektowność, a nie dobre maskowanie, a sugerować to mogą zaskakująco ułożone wzory. Nic bardziej mylnego. Nawet z niewielkiej odległości żołnierz idealnie zlewa się z otoczeniem. Skuteczność ta nie jest tylko i wyłącznie wynikiem odpowiedniego doboru barw, a przede wszystkim wzorów, które oszukują mózg osoby patrzącej w kierunku tak ubranego człowieka.

Dowództwo armii amerykańskiej chce wprowadzić trzy rodzaje mundurów tego typu dostosowanych do warunków pustynnych, leśnych, a także tak zwanej wersji przejściowej.

Źródło: , ,

Geekweek
Reklama
Reklama
Reklama
Reklama
Reklama
Strona główna INTERIA.PL
Polecamy