Motorola zwęża układy scalone

W laboratoriach Motoroli opracowano fotomaski (stosowane podczas procesu fotolitografii - wypalania układów na płytkach krzemowych), które pozwolą na wytworzenie układów scalonych o szerokości poniżej 100 nanometrów. Standardowa szerokość aktualnie produkowanych układów to 157 nanometrów. Dla porównania - ludzki włos jest szeroki na 10 000 nanometrów.

Aby uzyskać taką dokładność, fotomaski Motoroli muszą być stosowane z użyciem fotolitografii EUV (extreme ultra-violet) - nowej technologii, która stosuje światło o mniejszej długości fali, niż w powszechnie dziś stosowanych rozwiązaniach.

Pierwsze prace z nową technologią Motorola zacznie w przyszłym roku, jednak wykorzystanie nowego rozwiązania w produkcji masowej nie nastąpi wcześniej, niż w roku 2005. Rozwiązanie Motoroli być może przedłuży możliwości wykorzystania w produkcji metody fotolitograficznej. Na podstawie Prawa Moore'a (które mówi, że pojemność układów scalonych jest podwajana co 18 miesięcy) można obliczyć, że przy obecnie stosowanych rozwiązaniach, kres możliwości fotolitografii zostanie osiągnięty około roku 2012.

Źródło informacji: CNET, Agencja 4D