Pierwszy procesor z tranzystorem Tri-Gate
Intel dokonał przełomu na rynku elektroniki, wprowadzając do masowej produkcji technologię, która zmieni sposób budowy procesorów.
Tri-Gate pozwala na zmniejszenie poboru energii przy jednoczesnym zwiększeniu wydajności. Intel twierdzi, że w porównaniu z układami 32-nanometrowymi z tradycyjnymi tranzystorami, technologia Tri-Gate i 22-nanometrowy proces produkcyjny zapewniają zwiększenie wydajności układów nawet o 37 proc.
Intel zapowiadał wykorzystanie trójwymiarowej bramki w miejsce tradycyjnych tranzystorów planarnych już w roku 2006. Koncern mówił, że tranzystory 3D pojawią się wraz z wdrożeniem 32- lub 22-nanometrowego procesu produkcyjnego, ponieważ poniżej granicy 30 nanometrów obecnie wykorzystywane tranzystory o pojedynczej bramce będą charakteryzowały się nieakceptowalnie dużymi stratami mocy.
Tradycyjne tranzystory planarne (płaskie) zostały wynalezione w latach 50. ubiegłego wieku i stanowią podstawowy element układu scalonego. W miarę postępów miniaturyzacji konieczna okazała się zmiana geometrii tranzystora z dwu- na trójwymiarową. Dlatego też rozpoczęto prace nad tranzystorem trójbramkowym. Tego typu tranzystor korzysta z nowatorskiej, trójwymiarowej struktury bramki, przypominającej wzniesienie z pionowymi ścianami, co pozwala przesyłać sygnały elektryczne po górnej powierzchni bramki i wzdłuż obu ścian.
W rezultacie trzykrotnie zwiększa się przestrzeń dostępna dla sygnałów elektrycznych - jak po przebudowie jednopasmowej drogi w trójpasmową autostradę - choć tranzystor nie zajmuje więcej miejsca. Dzięki temu tranzystor trójbramkowy jest znacznie wydajniejszy od obecnych planarnych (płaskich) tranzystorów.
Mariusz Błoński
