Intel przejmuje pałeczkę
Intel jako pierwszy dokonał kolejnego przełomu w dziedzinie wytwarzania układów scalonych w technologii 45 nm. Firma zaprezentowała najprawdopodobniej pierwsze w pełni funkcjonalne układy pamięci SRAM (Static Random Access Memory) wykonane w procesie technologicznym 45 nanometrów.
Najnowsze osiągnięcie Intela dowodzi, że firma jest na najlepszej drodze do rozpoczęcia w 2007 roku produkcji układów w technologii 45 nm z wykorzystaniem 300 milimetrowych wafli krzemowych. Oznacza to kontynuację dalszego rozwoju zgodnie z Prawem Moore'a poprzez nową generację procesu technologicznego co dwa lata.
Obecnie Intel jest liderem w obszarze masowej produkcji półprzewodników w procesie technologicznym 65 nm. 65-nanometrowe układy są wytwarzane w dwóch zakładach w Arizonie i Oregonie. Kolejne dwie tego typu fabryki zostaną uruchomione jeszcze w tym roku w Irlandii i Oregonie.
- Nasza technologia 45 nm będzie fundamentem, na którym powstaną komputery charakteryzujące się większą wydajnością na wat, co przyniesie użytkownikom dodatkowe korzyści - powiedział Bill Holt, wiceprezes i dyrektor generalny Intel Technology and Manufacturing Group.
Zastosowanie procesu technologicznego 45 nm zapewni przyszłym układom ponad pięciokrotną redukcję upływu prądu w porównaniu z obecnie wytwarzanymi układami. Dzięki temu możliwe będzie wydłużenie czasu pracy urządzeń mobilnych na baterii oraz tworzenie jeszcze wydajniejszych i mniejszych platform.
