Polacy patentują metodę wytwarzania grafenu

Warszawski Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych (ITME) uzyskał właśnie ochronę patentową za oceanem dla opracowanej przez siebie metody masowej produkcji grafenu. Tym samym Polska ma szansę zostać światową potęgą jeśli chodzi o produkcję tego "materiału przyszłości".

Udało się uzyskać patent dla konkretnej metody produkcji grafenu na węgliku krzemu, a to właśnie ta metoda wydaje się obecnie najbardziej obiecująca jeśli chodzi o wykorzystanie tego materiału do produkcji elektroniki - a tu właśnie grafen ma nam dostarczyć kolejnej technologicznej rewolucji.

Patent w USA przyznano pod koniec kwietnia, a obecnie Polacy czekają na uzyskanie podobnej ochrony dla swojego wynalazku na terenie UE. Wcześniej opatentowali oni swój wynalazek w Japonii i Korei Południowej.

Grafen to alotropowa forma węgla składająca się z pojedynczej warstwy atomów tego pierwiastka, za wynalezienie której Konstantin Nowosiołow i Andriej Gejm z Uniwersytetu w Manchesterze otrzymali nagrodę Nobla z fizyki. Materiał ten ma przynieść rewolucję w wielu dziedzinach ze względu na doskonałe właściwości mechaniczne - ogromną wytrzymałość - i elektryczne - elektrony mogą po jego powierzchni poruszać się bardzo swobodnie.

Cały czas czekamy jednak na to aż trafi on pod strzechy, a tym razem Polska może mieć w tym wydatny udział.